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離子鍍是一種物理氣相沉積技術，通常在低氣壓氣體放電等離子體環(huán)境中進行，也稱為離子氣相沉積。離子鍍不僅可以鍍單單一金屬和合金，而且還可以獲得電鍍和化學鍍所不能得到的金屬與非金屬化合物鍍層。此鍍層的硬度和耐磨性極高，若用于刀具，可以大幅度提高刀具的切削速度和使用壽命，還可以改善切削過程，提高加工精度。在一般情況下離子鍍的鍍層很薄，所以常將離子鍍的鍍層稱為鍍膜。更重要的是，真空蒸鍍和濺射鍍膜傳統(tǒng)的蒸鍍以及濺射鍍膜都主要利用中性粒子成膜，在膜層粒子到達基片時的速度較低，因而會產(chǎn)生諸如沉積速率低、膜層附著力差、膜層不致密等問題，而離子鍍可以很好解決上述問題。

離子鍍技術原理。離子鍍技術采用專用設備和特定的水性化學原材料，應用化學反應的原理通過直接噴涂的方式達到電鍍的效果，使得被噴物體表面呈現(xiàn)鉻色、鎳色、金以及各種色彩漸變色等鏡面高光效果。

離子鍍技術分類。根據(jù)膜層粒子的獲得方式，離子鍍可以分為蒸發(fā)型離子鍍和濺射型離子鍍，其中蒸發(fā)型離子鍍又根據(jù)放點原理不同可以分為直流二級型離子鍍、熱絲弧離子鍍、空心陰極離子鍍以及熱陰極離子鍍等。直流二級離子鍍，通過穩(wěn)定的輝光放點，空心陰極離子鍍和熱絲弧離子鍍，都是熱弧光放電，而陰極電弧離子鍍放電類型最特殊，采用了冷弧光放電。在眾多離子鍍技術中陰極電弧離子鍍是集大成者，目前逐漸發(fā)展為硬質薄膜領域的主力。首先，帶有正電位的引弧針靠近帶有負電位的靶材，陰陽兩極之間距離足夠小的時候，兩極之間的氣體會被擊穿，形成胡電流，此時，部分氮氣發(fā)生離化，形成氮的陽離子以及電子。受到電場力的吸引，接下來氮的陽離子會飛翔陰極靶材附近，而電子會飛向引弧針，當電子到達陽極時，粒子將不能到達陰極靶面，二是在距離靶面較近的位置富集，形成正離子堆積層。接下來電子會飛向正離子堆積層，形成電流，堆積層和靶面被導通，在靶面附近產(chǎn)生電弧，蒸發(fā)了靶材，同時吸引正離子，產(chǎn)生濺射。